TH -1100 微波基片熱處理系統(tǒng)
一、主要用途:???系統(tǒng)用于工件的高溫退火及烘烤清潔處理。二、技術(shù)指標(biāo)：1.極限真空度：6.75×10-5Pa；2.單工位臥式石英結(jié)構(gòu)，石英管Φ150×1000（mm）；3.均溫區(qū)：Φ150×600（mm），溫度均勻性±5℃；最高加熱溫度1100℃；4.樣品架系統(tǒng)：100×100×700（mm）方形石英盒式結(jié)構(gòu)，單次出來樣品100片；三、設(shè)備組成：???主要由抽氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、真空爐、過渡室
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一、主要用途:
系統(tǒng)用于工件的高溫退火及烘烤清潔處理。
二、技術(shù)指標(biāo)：
1.極限真空度：6.75×10-5Pa；
2.單工位臥式石英結(jié)構(gòu)，石英管Φ150×1000（mm）；
3.均溫區(qū)：Φ150×600（mm），溫度均勻性±5℃；最高加熱溫度1100℃；
4.樣品架系統(tǒng)：100×100×700（mm）方形石英盒式結(jié)構(gòu)，單次出來樣品100片；
三、設(shè)備組成：
主要由抽氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、真空爐、過渡室系統(tǒng)、加熱烘箱、樣品臺系統(tǒng)、臺架、電控系統(tǒng)及冷卻水循環(huán)系統(tǒng)等組成。
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