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TH- 1000 臥式真空退火爐
一、主要用途:???用于高溫合金的光亮退火及真空除氣。二、技術指標：1.極限真空度：5×10-5Pa；2.真空室結構：Φ200×1100（mm）管式臥式結構；3.最高加熱溫度1000℃，三段控溫，加熱到850℃時間小于2小時；均溫區：Φ150×600（mm），均溫區內溫度偏差小于±2℃；4.加熱爐：Φ250（內徑）×Φ600（外徑）×1200（mm）；5.采用外加熱方式，外面3路控溫熱電偶（500
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一、主要用途:
用于高溫合金的光亮退火及真空除氣。
二、技術指標：
1.極限真空度：5×10-5Pa；
2.真空室結構：Φ200×1100（mm）管式臥式結構；
3.最高加熱溫度1000℃，三段控溫，加熱到850℃時間小于2小時；均溫區：Φ150×600（mm），均溫區內溫度偏差小于±2℃；
4.加熱爐：Φ250（內徑）×Φ600（外徑）×1200（mm）；
5.采用外加熱方式，外面3路控溫熱電偶（500mm），內部3路測溫熱電偶(1440mm、1140mm、840mm)，保證爐內均溫區不小于600mm；溫度偏差小于±2℃；
三、設備組成：
主要由真空室系統、測量系統、真空抽氣系統、加熱爐系統、加熱控溫系統及電控系統等組成。
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