BS-200 特制真空腔系統(tǒng)

BS-200??特制真空腔系統(tǒng)一、主要用途：保密。二、技術(shù)指標(biāo)：1.系統(tǒng)極限真空度：5×10-5Pa，導(dǎo)光管真空度：1×10-3Pa，統(tǒng)漏率：5×10-7Pa.L/S。同時(shí)，該真空室系統(tǒng)的最高可承受0.2MPa的正壓力；2.真空室容積：0.12M3；3.導(dǎo)光系統(tǒng)管道結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需同時(shí)滿足兩種不同光路：光路入射透鏡中心距地面距離為1200mm，距小平臺(tái)高度為170-240mm；4.有兩種規(guī)格的樣品架：一

關(guān)鍵詞：

產(chǎn)品分類：

真空靶室設(shè)備

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024-23758583

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詳細(xì)介紹

BS-200 特制真空腔系統(tǒng)

一、主要用途：保密。

二、技術(shù)指標(biāo)：

1.系統(tǒng)極限真空度：5×10^-5Pa，導(dǎo)光管真空度：1×10^-3Pa，統(tǒng)漏率：5×10^-7Pa.L/S。同時(shí)，該真空室系統(tǒng)的最高可承受0.2MPa的正壓力；

2.真空室容積：0.12M³；

3. 導(dǎo)光系統(tǒng)管道結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需同時(shí)滿足兩種不同光路：光路入射透鏡中心距地面距離為1200mm，距小平臺(tái)高度為170-240mm；

4. 有兩種規(guī)格的樣品架：一種放置圓形樣品，一種放置放方形樣品，每次可以放置4個(gè)50×50×（1～10）mm樣品或者4個(gè)φ50×（1～10）mm樣品,樣品架采用在樣品背部彈性頂壓結(jié)構(gòu)，上表面始終靠在一個(gè)固定的平面上,不受樣品厚度的變化而影響樣品表面置入光口的距離；

5. 平動(dòng)位移（X、Z）：樣品托懸掛在平移臺(tái)的側(cè)面，保證光路通過樣品后直接打在真空室壁上，同時(shí)也不得打在樣品架上。共兩套組件，實(shí)現(xiàn)X、Z的兩維平移運(yùn)動(dòng)，兩維平臺(tái)行程均為±60毫米；

6.光路質(zhì)量分析儀：安裝在等效光路室的出口處，放置在真空室外側(cè)，通過波紋管調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)進(jìn)行調(diào)節(jié)，位移調(diào)節(jié)為±20mm，角度調(diào)節(jié)為±5度，等效光路上出光孔玻璃到分光片的距離為1082mm，出光玻璃片至光路質(zhì)量分析儀檢測(cè)面的距離為218mm。

三、系統(tǒng)組成：

本裝置主要由真空抽氣及真空測(cè)量系統(tǒng)、真空室系統(tǒng)、三維平臺(tái)系統(tǒng)、樣品架系統(tǒng)、CCD波紋管調(diào)整系統(tǒng)、分光片調(diào)節(jié)組件、楔形片調(diào)節(jié)組件、光路質(zhì)量分析儀及調(diào)整組件、光路調(diào)節(jié)組件、分光片后表面反射光吸收池組件、光路經(jīng)過樣品反射后光路組件、電控系統(tǒng)、輔助支架系統(tǒng)等組成。

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