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PECVDⅠ系統
一、主要用途：采用高頻感應加熱方法制備各種薄膜、納米碳管。二、技術指標：?1、極限真空：7*10-5Pa；?2、φ100*590（mm）立式石英管結構；?3、感應加熱：射頻：50±30KHz：加熱2200℃/15分鐘，最高加熱2200℃；全固態高頻感應電源，功率10～15千瓦；?4、氣路系統：3路質量流量計控制，范圍：一路0～3升/分鐘，一路0～5升/分鐘，一路0～200sccm。三、系統組成：?
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一、主要用途：
采用高頻感應加熱方法制備各種薄膜、納米碳管。
二、技術指標：
1、極限真空：7*10-5Pa；
2、φ100*590（mm）立式石英管結構；
3、感應加熱：射頻：50±30KHz：加熱2200℃/15分鐘，最高加熱2200℃；全固態高頻感應電源，功率10～15千瓦；
4、氣路系統：3路質量流量計控制，范圍：一路0～3升/分鐘，一路0～5升/分鐘，一路0～200sccm。
三、系統組成：
系統主要由真空抽氣及測量系統、測溫系統、石英加熱爐系統、感應加熱系統、氣路系統、電控及輔助系統等組成。
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