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ZF- 450Ⅰ 蒸發鍍膜系統（光學鍍膜）
一、系統用途：保密。二、技術指標：?1、極限真空度：8×10-6Pa；系統漏率：6.7×10-7Pa.L/S；?2、蒸發源：2個，采用電阻蒸發舟的方式，至下向上蒸發鍍膜。蒸發舟與樣呂之間的距離為150～200mm；?3、蒸發舟最高溫度為:室溫～800℃，控溫精度：±1℃；室溫～1300℃，控溫精度：±2℃；功率：1KW；?4、樣品尺寸：100×50×（1～2）（厚）毫米，每次只鍍一個樣品，樣品可旋
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一、系統用途：保密。
二、技術指標：
1、極限真空度：8×10-6Pa；系統漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
2、蒸發源：2個，采用電阻蒸發舟的方式，至下向上蒸發鍍膜。蒸發舟與樣品之間的距離為150～200mm；
3、蒸發舟最高溫度為:室溫～800℃，控溫精度：±1℃；室溫～1300℃，控溫精度：±2℃；功率：1KW；
4、樣品尺寸：100×50×（1～2）（厚）毫米，每次只鍍一個樣品，樣品可旋轉加熱；
5、保證膜的牢固度，樣品在蒸鍍過程中，要加熱到200℃（最高溫度）。
三、系統組成：
主要由蒸發源及其電源、真空室、真空測量系統、真空抽氣系統、樣品臺及其擋板系統、控制單元等組成。
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