ZF- 550 電子束/熱蒸發(fā)真空鍍膜系統(tǒng)

ZF-550??電子束/熱蒸發(fā)真空鍍膜系統(tǒng)??一、用途：保密。二、技術(shù)指標：1.蒸鍍室極限真空度：5×10-5Pa,系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S；壓升率：停泵關(guān)機12小時后真空度小于等于5Pa；2.腔體內(nèi)兩套蒸發(fā)裝置，一套為熱蒸發(fā)；另外一套為電子束蒸發(fā)系統(tǒng)；3.熱蒸發(fā)裝置為兩個蒸發(fā)舟，含加熱和控溫裝置，控溫精度要求：±1℃程序可控；4.兩個蒸發(fā)源分別為：大蒸發(fā)源內(nèi)徑為6cm高度為7.5cm圓柱

關(guān)鍵詞：

產(chǎn)品分類：

蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

電話：

024-23758583

產(chǎn)品詢價

相關(guān)產(chǎn)品

詳細介紹

ZF- 550 電子束/熱蒸發(fā)真空鍍膜系統(tǒng)

一、用途：保密。

二、技術(shù)指標：

1. 蒸鍍室極限真空度：5×10^-5Pa,系統(tǒng)漏率：1×10^-7PaL/S；壓升率：停泵關(guān)機12小時后真空度小于等于5Pa；

2. 腔體內(nèi)兩套蒸發(fā)裝置，一套為熱蒸發(fā)；另外一套為電子束蒸發(fā)系統(tǒng)；

3. 熱蒸發(fā)裝置為兩個蒸發(fā)舟，含加熱和控溫裝置，控溫精度要求：±1℃程序可控；

4. 兩個蒸發(fā)源分別為：大蒸發(fā)源內(nèi)徑為6cm高度為7.5cm圓柱狀蒸發(fā)源，小蒸發(fā)源內(nèi)徑為2cm高度為2.5cm蒸發(fā)源；

5. 大小蒸發(fā)舟的加熱溫度為200~900℃；控溫精度為±1℃，程序控溫；最大溫差：5 ℃以內(nèi)，平衡時間：3分鐘以內(nèi)，升溫速率：1～20℃/分鐘可調(diào)可控；

6. 三個蒸發(fā)系統(tǒng)的蒸發(fā)面在同一水平面上，蒸發(fā)系統(tǒng)表面距樣品表面中心的高度距離為250±50mm；

7. 工件架：在腔體內(nèi)保證樣品的法線方向與鉛垂直方向的夾角在15°～45°之間連續(xù)可調(diào)，在調(diào)節(jié)桿上作出角度調(diào)節(jié)標記，以方便調(diào)節(jié)；

8. 工件架：公轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)速（即換位轉(zhuǎn)速）在0～30 轉(zhuǎn)/分鐘, 自轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)速在0-60轉(zhuǎn)/分鐘之間程序可調(diào)；

9. 工件架上的樣品基片可以通過紅外燈進行加熱，加熱溫度從室溫到200℃程序可調(diào)可控；

10. 基片架中心和蒸發(fā)源之間的距離的調(diào)節(jié)范圍為200～300 mm；在調(diào)節(jié)桿上標注出蒸發(fā)源口離樣品中心的垂直距離；

11. E型電子槍：功率8Kw、270°，坩堝容量：4×7cc ；

12. 計算機控制系統(tǒng):具有樣品旋轉(zhuǎn)控制功能、熱蒸發(fā)蒸發(fā)舟加熱控制功能、蒸發(fā)舟擋板控制與開啟功能、電子束蒸發(fā)系統(tǒng)的采集功能、電子束蒸發(fā)系統(tǒng)擋板的控制與開啟功能、膜厚測試儀擋板的控制和開啟功能、真空度的采集功能。

三、主要組成：

該蒸鍍設(shè)備主要由真空抽氣及真空測量系統(tǒng)、真空室系統(tǒng)、工件架系統(tǒng)、熱蒸發(fā)源系統(tǒng)、E型電子槍及控制電源系統(tǒng)、膜厚測試系統(tǒng)、擋板系統(tǒng)、烘烤照明系統(tǒng)、水冷卻循環(huán)及報警系統(tǒng)、電控及計算機控制系統(tǒng)、臺架系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)等組成。

相關(guān)產(chǎn)品