多功能真空鍍膜機(jī)
一、設(shè)備目的：制備有機(jī)發(fā)光膜。二、技術(shù)要求：1、鍍膜室：鍍膜腔室尺寸約為Φ400*450mm，不銹鋼材料，圓柱形結(jié)構(gòu)，真空室上鉸鏈方門結(jié)構(gòu)。2、抽氣系統(tǒng)：采用分子泵+機(jī)械泵抽氣系統(tǒng)；2.1、真空度：鍍膜室的極限真空≤6×10-5Pa，工作壓力≤2*10-3Pa；2.2、系統(tǒng)漏率≤6.7×10-7PaL/s。3、蒸發(fā)源系統(tǒng)：3.1、蒸發(fā)源四個(gè)，鎢舟或者鉬舟（甲方自備）；蒸發(fā)電極五根；3.2、蒸發(fā)電源
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一、設(shè)備目的：制備有機(jī)發(fā)光膜。
二、技術(shù)要求：
1、鍍膜室：鍍膜腔室尺寸約為Φ400*450mm，不銹鋼材料，圓柱形結(jié)構(gòu)，真空室上鉸鏈方門結(jié)構(gòu)。
2、抽氣系統(tǒng)：采用分子泵+機(jī)械泵抽氣系統(tǒng)；
2.1、真空度：鍍膜室的極限真空≤6×10-5Pa，工作壓力≤2*10-3Pa；
2.2、系統(tǒng)漏率≤6.7×10-7PaL/s。
3、蒸發(fā)源系統(tǒng)：
3.1、蒸發(fā)源四個(gè)，鎢舟或者鉬舟（甲方自備）；蒸發(fā)電極五根；
3.2、蒸發(fā)電源由甲方自備（兩臺）；
3.3、擋板：蒸發(fā)源擋板采用電動(dòng)磁力控制方式，采用開關(guān)控制開啟；
3.4、安裝：蒸發(fā)源安裝在真空室的下底上，以一定角度正對上方中心樣品。
4、樣品架系統(tǒng)：
4.1、樣品架可放置大小為100mm×100mm的樣品，載玻片；
4.2、樣品架可旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)速度為：0～30轉(zhuǎn)/分；
4.3、樣品可加熱，加熱溫度為：500℃；
4.4、安裝：樣品安裝在真空室的上蓋上，蒸發(fā)源安裝在真空室的下蓋上，向上蒸發(fā)鍍膜，其中兩個(gè)蒸發(fā)源帶有擋板裝置。
5、設(shè)備帶有國產(chǎn)高精度單探頭膜厚測試儀安裝接口CF35。
6、樣品根據(jù)鍍膜工藝帶有掩膜板，根據(jù)用戶要求，乙方留有安裝掩膜板位置，用戶自制掩膜板。
7、設(shè)備帶有樣品傳遞功能。
8、設(shè)備帶有斷水?dāng)嚯娺B鎖保護(hù)報(bào)警裝置、防誤操作保護(hù)報(bào)警裝置。
9、實(shí)驗(yàn)室應(yīng)配有冷卻循環(huán)水機(jī)，為真空泵、電極、膜厚測試儀冷卻。
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