JSD-1300 高精度超高真空低濺射氣壓磁控濺射鍍膜設(shè)備
TAJS(D)-1300高精度超高真空低濺射氣壓磁控濺射鍍膜設(shè)備（單室）一、主要用途：???本設(shè)備主要用于實(shí)驗(yàn)室制備極紫外、軟X射線、X射線、和中子光學(xué)薄膜元件。二、技術(shù)指標(biāo)：1.真空指標(biāo)：極限真空度：1.0×10-6Pa；2.從大氣狀態(tài)啟動(dòng)真空系統(tǒng)，兩個(gè)小時(shí)內(nèi)，真空可以達(dá)到3.0×10-4Pa；系統(tǒng)總漏率≤1.0×10-8PaL/S；3.設(shè)備的工作壓強(qiáng)0.5～2.5mtorr；4.系統(tǒng)結(jié)構(gòu)：Φ1
關(guān)鍵詞：
產(chǎn)品分類(lèi)：
詳細(xì)介紹
TAJS(D)-1300高精度超高真空低濺射氣壓磁控濺射鍍膜設(shè)備（單室）
一、主要用途：
本設(shè)備主要用于實(shí)驗(yàn)室制備極紫外、軟X射線、X射線、和中子光學(xué)薄膜元件。
二、技術(shù)指標(biāo)：
1.真空指標(biāo)：極限真空度：1.0×10-6Pa；
2.從大氣狀態(tài)啟動(dòng)真空系統(tǒng)，兩個(gè)小時(shí)內(nèi)，真空可以達(dá)到3.0×10-4Pa；系統(tǒng)總漏率≤1.0×10-8PaL/S；
3.設(shè)備的工作壓強(qiáng)0.5～2.5mtorr；
4.系統(tǒng)結(jié)構(gòu)：Φ1300×360（mm）（內(nèi)徑）圓筒立式雙升降不銹鋼結(jié)構(gòu)；
5.磁控靶尺寸：15英寸×5英寸×6mm 設(shè)計(jì)4個(gè)靶位，均布；靶與基片距離：40～100mm，用導(dǎo)向螺桿可手動(dòng)連續(xù)調(diào)節(jié)；
6.基片尺寸：最大尺寸為Φ203（mm），厚度為50(mm)；
7.基片自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速：0～300轉(zhuǎn)/分，手動(dòng)分檔調(diào)速（50轉(zhuǎn)一檔）；
8.樣品架隨大公轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)：0.005～5轉(zhuǎn)/分，控制精度0.5%；公自轉(zhuǎn)速度均可控可調(diào)，基片公轉(zhuǎn)時(shí)與靶平行，偏差小于1mm；
9.真空室上蓋雙支撐升降，最大升降高度≥70mm,便于清洗和更換樣品；
10.氣路：四路質(zhì)量流量計(jì)控制，每路0～20sccm；
11.濺射鍍膜過(guò)程計(jì)算機(jī)控制，具有：復(fù)位功能、確認(rèn)靶位功能、濺射鍍膜時(shí)間控制功能和回轉(zhuǎn)控制功能。
三、系統(tǒng)組成：
系統(tǒng)主要由濺射室、磁控靶及電源、工件架、烘烤照明系統(tǒng)、上蓋雙升降機(jī)構(gòu)、氣路系統(tǒng)、真空抽氣及真空測(cè)量系統(tǒng)、臺(tái)架、電控及計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)等組成。
相關(guān)產(chǎn)品
產(chǎn)品詢(xún)價(jià)
我們將在一個(gè)工作日內(nèi)與您聯(lián)系。請(qǐng)注意您的電子郵件。
總 機(jī)：024-23758583
傳 真：024-89422961
市場(chǎng)部（售后）：13840375510/13804984297
郵箱：syta_cl@163.com cla.sy@163.com
地址：沈陽(yáng)市蘇家屯區(qū)大淑堡瑰香街83-5號(hào)